vkee等離子設(shè)備選型與試樣

一、等離子體表面處理機標準名稱為：大氣非平衡低溫等離子體射流裝置，是材料表面處理的一種新型高效環(huán)保工藝，可以完全替代藥劑浸泡、光熱照射、機械加工等傳統(tǒng)材料表面處理工藝。

二、不同材料工件表面處理的要求不同，等離子體處理效果會受以下因素影響：材料材質(zhì)、運行速度、處理功率、工作風(fēng)壓、輸入壓縮氣體純凈度、噴頭距離等。工件表面處理完成后需在一定時間內(nèi)進行下一道工序，特別是金屬材料，處理后的效果會隨時間推移不斷衰減。

三、如果您之前使用過其他品牌（包括進口品牌）等離子體處理機，同功率下我們的設(shè)備可以完全替換，并保持同樣的操作工藝即可。

四、如果您是第一次購買和使用等離子體處理機，我們可以提供免費試樣服務(wù)，可針對您提供的樣品進行測試，并根據(jù)處理效果提供可參考的工藝細節(jié)，保證設(shè)備的順利使用。

五、等離子體處理設(shè)備價格不同，選用的核心元器件也會不同，進而直接影響設(shè)備的運行穩(wěn)定性和使用壽命，我們一直堅持品質(zhì)為先，質(zhì)量為重，服務(wù)至上的原則，請放心選擇我們的產(chǎn)品。

備注：等離子體運用詳細說明和設(shè)備使用手冊，點擊下載

等離子體表面處理原理介紹

氣體在高頻低壓下被激發(fā)，產(chǎn)生含有離子、激發(fā)態(tài)分子，自由基等多種活性粒子， 通過化學(xué)或物理作用對工件表面進行處理，這些活性離子可以起到以下作用：

• 清潔——去除弱鍵和-CH有機污物，實現(xiàn)分子水平的污染物去除(一般厚度為 3~30nm)；

• 活化——增加了工件表面能量，使其形成穩(wěn)定的基團，從而提高工件表面活性；

• 蝕刻——產(chǎn)品中高分子材料與等離子體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而達到清除保護膜，改善表面附著力；

• 交聯(lián)——產(chǎn)品中高分子單鍵被打斷而重新組合，形成雙鍵或多鍵或自由基達到表面改性的作用；

• 消融——活性離子轟擊產(chǎn)品聚合物表面時，去除聚合物鏈和弱鍵，改善表面化學(xué)性能。