vkee等離子設(shè)備選型與試樣

一、等離子體表面處理機(jī)標(biāo)準(zhǔn)名稱為：大氣非平衡低溫等離子體射流裝置，是材料表面處理的一種新型高效環(huán)保工藝，可以完全替代藥劑浸泡、光熱照射、機(jī)械加工等傳統(tǒng)材料表面處理工藝。

二、不同材料工件表面處理的要求不同，等離子體處理效果會(huì)受以下因素影響：材料材質(zhì)、運(yùn)行速度、處理功率、工作風(fēng)壓、輸入壓縮氣體純凈度、噴頭距離等。工件表面處理完成后需在一定時(shí)間內(nèi)進(jìn)行下一道工序，特別是金屬材料，處理后的效果會(huì)隨時(shí)間推移不斷衰減。

三、如果您之前使用過其他品牌（包括進(jìn)口品牌）等離子體處理機(jī)，同功率下我們的設(shè)備可以完全替換，并保持同樣的操作工藝即可。

四、如果您是第一次購買和使用等離子體處理機(jī)，我們可以提供免費(fèi)試樣服務(wù)，可針對您提供的樣品進(jìn)行測試，并根據(jù)處理效果提供可參考的工藝細(xì)節(jié)，保證設(shè)備的順利使用。

五、等離子體處理設(shè)備價(jià)格不同，選用的核心元器件也會(huì)不同，進(jìn)而直接影響設(shè)備的運(yùn)行穩(wěn)定性和使用壽命，我們一直堅(jiān)持品質(zhì)為先，質(zhì)量為重，服務(wù)至上的原則，請放心選擇我們的產(chǎn)品。

備注：等離子體運(yùn)用詳細(xì)說明和設(shè)備使用手冊，點(diǎn)擊下載

等離子體表面處理原理介紹

氣體在高頻低壓下被激發(fā)，產(chǎn)生含有離子、激發(fā)態(tài)分子，自由基等多種活性粒子， 通過化學(xué)或物理作用對工件表面進(jìn)行處理，這些活性離子可以起到以下作用：

• 清潔——去除弱鍵和-CH有機(jī)污物，實(shí)現(xiàn)分子水平的污染物去除(一般厚度為 3~30nm)；

• 活化——增加了工件表面能量，使其形成穩(wěn)定的基團(tuán)，從而提高工件表面活性；

• 蝕刻——產(chǎn)品中高分子材料與等離子體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而達(dá)到清除保護(hù)膜，改善表面附著力；

• 交聯(lián)——產(chǎn)品中高分子單鍵被打斷而重新組合，形成雙鍵或多鍵或自由基達(dá)到表面改性的作用；

• 消融——活性離子轟擊產(chǎn)品聚合物表面時(shí)，去除聚合物鏈和弱鍵，改善表面化學(xué)性能。